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超纯去离子水系统
超纯去离子水系统 型号:苏州创联净化CL-0.25T/H型 主要指标:产水量Q≥0.25 m³/H;出水电阻率≥18.2 MΩ.C -
化学合成与工艺辅助设备
化学合成与工艺辅助设备包括通风柜、分析天平、化学合成装置、鼓风干燥箱、冷冻干燥机、真空干燥箱、离心机、压片机、管式炉、马弗炉、超声细胞粉碎机、超声装置等 -
EBL
型号:日本电子JSM-IT100型SEM+图形发生器; 主要指标:极限线宽:拼接场内图形套刻与拼接精度:100nm;<20nm -
RIE
型号:英国牛津PlasmaPro80型;主要指标:样品8英寸;刻蚀气体CF4、SF6、CHF3、Ar、02 -
光盘匀胶固化机
型号:瑞典M2;主要指标:光盘匀胶、紫外固化和AI反射层溅镀一体机 -
激光直写装置
型号:定制;主要指标:激光波长658nm和405nm,曝光特征尺寸>200nm -
手套箱
型号:苏州威格SG1500/750TS-H型;主要指标:泄露率<0.0003vol/h;H2O含量<0.5 ppm,7%O2含量<0.5pp。 -
紫外光刻机
型号:中科院光电所URE-2000/35型;主要指标:曝光分辨率:0.8-1μm;对准精度:±0.8μ。
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